|
أ.م. انتصار كاظم عبد
عنوان رسالة الماجستير: تأثير خلط نسب معينة من غاز O2 – He – N2 في عملية حفر رقائق السيليكون بالبلازما
|
|||
|
ت |
عنوان البحث |
محل النشر |
السنة |
|
1 |
Anisotropic etching of poly-silicon wafer by using Cf3Br |
Diyala Jornal for pure sciences |
2010 |
|
2 |
Studying properties of SF6 plasma |
Journal of diyala |
2009 |
|
3 |
Measuring the influence of the pressure changes on the gas flow of plasma statistically |
ديالى للبحوث العلمية والتربوية |
2008 |
|
4 |
Eching silicon by SF6 plasma and CF3Br plasma |
Al-Fath Journal |
2007 |
|
5 |
Eching of silicon wafers using SF6 plasma |
Journal of Diyala |
2006 |
|
6 |
قياس معدل حفر عينات p-type-Si ببلازما CF3Br كدالة لتغير الجهد |
ديالى للبحوث العلمية |
2005 |
|
7 |
تأثير خلط نسب معينة من غازات N2,He,O2 في عملية حفر رقائق السيليكون بالبلازما |
الجامعة المستنصرية -كلية التربية – قسم الفيزياء |
2004
|
|
8 |
Using Wet & Dry Etching technologies to etch Si-Wafers |
الجامعة المستنصرية- مجلة كلية التربية |
2010 |
|
9 |
Chemical etching of Si-type wafers using KOH |
مجلة ديالى للعلوم الصرفة |
2012 |
|
10 |
Chemical Etching of Si- wafers by Using HF |
الجامعة المستنصرية -مجلة كلية التربية الاساسية |
2010 |
|
11 |
Statistical Analysis study different between wet and dry etching |
جامعة ديالى –مجلة ديالى للعلوم الصرفة |
2014 |